摘要

本发明提供一种基板处理装置，可将对排气反应容器排气时的排气端口的电导系数在ALD处理中设定得小，以便在所述反应容器内形成层流，在净化处理中设定得大，以便可在短时间内净化所述反应容器内。基板处理装置(40)的排气端口(201a、201b)具有沿大致垂直于所述层流的流动方向的方向延伸的裂缝形状。在所述排气端口上结合旋转阀(25A、25B)，该旋转阀配备具有对应于所述裂缝形状的裂缝状开口部的阀体。伴随所述旋转阀中阀体的旋转，电导系数变化。

主权项

1、一种基板处理装置，该装置具备：配备保持被处理基板的基板保持台、且在排气端口被排气的处理容器；以及分别以层流的形式向所述处理容器内供给多数的原料气体的原料气体供给系统，其特征在于，所述排气端口具有沿大致垂直于所述层流的流动方向的方向延伸的裂缝形状，在所述排气端口上结合具有阀体的阀，所述阀体具有对应于所述排气端口的裂缝形状的裂缝状开口部，所述裂缝状开口部沿大致垂直于所述排气端口的延伸方向的方向、可相对所述排气端口位移地设置，所述阀通过所述裂缝状开口部位移来使开度变化。